imec引入先進EUV光刻系統，助力2nm以下芯片研發

近日，比利時先進半導體技術研究與創新中心（imec）宣布已安裝ASML EXE:5200高數值孔徑極紫外光刻系統，并將其描述為“當今最先進的光刻設備”。

imec在公告中表示：“這一戰略里程碑進一步鞏固了imec作為行業進入埃米時代引領者的地位，為其全球合作伙伴生態系統提供了無與倫比的早期機會，以獲取下一代芯片微縮技術。”

該高數值孔徑EUV系統直接集成了全套圖形化工藝、量測工具及材料，將使imec及其合作伙伴能夠獲得突破2nm以下邏輯制程和高密度存儲技術所需的性能，從而推動先進人工智能和高性能計算的發展。

imec宣布，全球最先進的高數值孔徑EUV光刻系統ASML EXE:5200已運抵其位于魯汶的300mm潔凈室
 

開創高數值孔徑EUV技術
imec首席執行官Luc Van den hove表示：“過去兩年是高數值孔徑（0.55 NA）EUV光刻技術發展的重要篇章，imec與ASML攜手生態系統合作伙伴，在其位于費爾德霍芬的聯合實驗室共同開創了高數值孔徑EUV技術。如今將EXE:5200高數值孔徑EUV光刻系統安裝到我們位于魯汶的300mm潔凈室中，我們旨在將這些圖形化技術提升至產業級規模。”

“該系統無與倫比的分辨率、改進的套刻精度、高產能，以及新的晶圓存儲庫（可提升工藝穩定性和吞吐量），將為我們的合作伙伴在加速開發2nm以下芯片技術方面提供決定性優勢。隨著行業邁入埃米時代，高數值孔徑EUV將成為一項基石能力，imec很榮幸通過為合作伙伴提供最早、最全面的技術獲取途徑來引領這一進程。”

這一成就是imec與ASML五年戰略合作伙伴關系的關鍵組成部分，該合作得到了歐盟（通過芯片聯合體及歐洲共同利益重要項目）、比利時弗蘭德政府及荷蘭政府的支持。Van den補充道：“作為歐盟資助的NanoIC試點生產線的核心組成部分，該設備將在未來幾十年為鞏固歐洲作為先進半導體研發領導者的地位發揮關鍵作用。”

Van den表示：“將這一新型光刻系統引入imec的潔凈室，使該研究中心成為一個先進圖形化工藝的綜合開發環境。imec與芯片制造商、設備、材料及光刻膠供應商、掩模公司以及量測專家的生態系統合作，將使我們能夠加速學習周期，為下一代邏輯和存儲器件技術開發尖端的圖形化工藝。”

ASML首席執行官Christophe Fouquet評論道：“imec安裝EXE:5200系統標志著向埃米時代邁出了重要一步。我們正攜手加速高數值孔徑EUV技術的可擴展性，以支持下一代先進存儲和計算技術的發展。”